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Top > Research > Growth : III-V on Si photo detector

Updated August 21, 2017

■ テーマ例 ■

Si上選択成長によるInGaAs microdisc形成メカニズム解明とその赤外受光器への応用

渡邉 冬馬,中野 義昭,杉山 正和

InGaAsは赤外発光・受光素子の材料として様々な場面で使用されてきているが,使用される成長基板がInPであることから,小面積・高価格であるという問題点が知られている.そのため,大面積・低価格なSi基板上にIII-V化合物半導体を積層する技術が研究されており,その手法の1つとして,SiO2でパターニングされたSi基板を用いる微小領域選択成長法がある.これは,Si基板上に数μmの大きさを持つmicrodiscをモノリシックに成膜できる手法として注目を浴びている.結晶成長条件がmicrodiscへ与える影響を定量的に議論することにより,microdiscへの原料取込みメカニズムを解明し,均一なmicrodiscの作製を目指している.本技術を用いて,不純物ドーピングによりInGaAsのpn接合を形成し,Si回路と集積されたマルチチャンネルInGaAs赤外受光器の実現を目指している.


図 InGaAs microdisc on Siの模式図と走査電子顕微鏡像
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